วารสารวิชาการระดับนานาชาติ Print

 

  1. S. Chaiyakun, A. Buranawong, T. Deelert and N. Witit-anun. 2008. The Influence of Total and Oxygen Partial Pressures on Structure and Hydrophilic Property of TiO2 Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering. Advanced Materials Research. Vols.55-57. pp 465-468.
  2. N. Witit-anun, P. Rakkwamsuk, P. Limsuwan. 2008. Characterization of Anatase and Rutile TiO2 Thin Films Deposited by Two Cathodes Sputtering System. Advanced Materials Research. Vols.55-57. pp 469-472. 
  3. A.Intasorn, N. Witit-anun and M.Haengwattana. Copper Thin Film Thickness Measurement Using X-Ray Diffractometer and X-Ray Fluorescence Spectrometers. Science International (Lahore). 14(4) Oct.-Dec.2002. 275-278.
вікна Львів
www.smartum.com.ua/
winnerlex.com.ua/
магазин парфюмерии
евроремонт квартир
туалетная бумага
уроки английского языка для начинающих
подарок для подруги
Last Updated ( Friday, 05 February 2016 08:10 )