การเคลือบผิววัสดุมีวัตถุประสงค์เพื่อเปลี่ยนแปลงและปรับปรุงสมบัติของวัสดุให้เป็นไปตามที่ต้องการ ทั้งนี้การปรับปรุงคุณภาพผิววัสดุวิธีหนึ่ง คือ การเคลือบด้วยสารที่มีลักษณะเป็นชั้นเคลือบบางๆ ที่เรียกว่า “ฟิล์มบาง (thin film)” บนผิววัสดุ ตั้งแต่อดีตจนถึงปัจจุบันการเคลือบผิวชิ้นงานส่วนใหญ่จะนิยมใช้วิธีทางเคมี เช่น การเคลือบด้วยไฟฟ้า (electroplating) แต่การเคลือบวิธีนี้มีข้อเสียคือคุณภาพของผิวเคลือบต่ำอีกทั้งยังมีปัญหาด้านสิ่งแวดล้อม จึงมีการวิจัยและพัฒนาเทคนิคการเคลือบใหม่ทดแทน ได้แก่ “การเคลือบในสุญญากาศ (vacuum coating)” เนื่องจากการเคลือบนี้เกิดขึ้นเฉพาะในสุญญากาศและไม่ใช้สารเคมีที่จะทำให้เกิดปัญหาสิ่งแวดล้อมในกระบวนการเคลือบ

การเคลือบในสุญญากาศ สามารถได้เป็น 2 กลุ่มใหญ่ๆ คือ (1) Chemical Vapor Deposition : CVD อาศัยการแตกตัวของสารเคมีในสภาพแก๊สและเกิดปฏิกิริยาเคมีเป็นสารใหม่เคลือบบนผิววัสดุ และ (2) Physical Vapor Deposition : PVD อาศัยการทำให้อะตอมสารเคลือบหลุดออกจากผิวสารเคลือบด้วยความร้อนหรือการถ่ายเทโมเมนตัมแล้วฟุ้งกระจายเข้าจับและยึดติดกับผิววัสดุรองรับ

ปัจจุบันมีอุตสาหกรรมหลายแห่งในประเทศได้นำเครื่องเคลือบในสุญญากาศมาใช้มากขึ้นเพื่อเร่งการผลิตเป็นสำคัญ แต่ในด้านการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยีนี้ของประเทศพบว่ายังมีอยู่น้อยมากและส่วนใหญ่จะจำกัดในสถาบันการศึกษาเท่านั้น หากพิจารณารายละเอียดของเครื่องเคลือบในสุญญากาศจะพบว่าอุปกรณ์ส่วนใหญ่สร้างขึ้นโดยใช้เทคนิคพื้นฐานซึ่งสามารถวิจัยและพัฒนาขึ้นได้ในประเทศ เพียงแต่งานด้านนี้จะต้องการความละเอียดมากในการออกแบบและสร้างค่อนข้างมาก ซึ่งหากทำได้ก็จะช่วยประหยัดงบประมาณในการจัดซื้อเครื่องมือที่มีราคาสูงเหล่านี้จากต่างประเทศได้

ช่วงกลางปี พ.ศ.2536 คณะอาจารย์ของ ภาควิชาฟิสิกส์  คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา โดยการนำของ ผศ.สุรสิงห์ ไชยคุณ พร้อมด้วย อ.นิรันดร์ วิทิตอนันต์ และ อ.สกุล ศรีญาณลักษณ์ (ตำแหน่งทางวิชาการในขณะนั้น) ได้รวมกลุ่มเพื่อทำงานวิจัยร่วมกันและในช่วงแรกทุกคนมีความสนใจร่วมกันเกี่ยวกับงานวิจัยและพัฒนาด้านเลเซอร์ฟิสิกส์ จึงได้เดินทางไปศึกษาดูงานที่ห้องปฏิบัติการวิจัยเลเซอร์ ของ ภาควิชาฟิสิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี (ซึ่งดำเนินงานโดย รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ) หลายครั้ง ซึ่งในแต่ละครั้งก็จะได้รับความกรุณาจาก รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ ในการคำแนะนำตลอดจนความรู้ต่างๆ เกี่ยวกับงานวิจัยและพัฒนาด้านเลเซอร์ฟิสิกส์อย่างดีตลอดมา ในที่สุดคณะทำงานก็มีแนวคิดที่จะทำวิจัยและพัฒนาด้านเลเซอร์ฟิสิกส์ จึงได้กลับไปขอคำแนะนำจาก รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ อีกครั้ง เพื่อเตรียมตัวสำหรับการเริ่มงานวิจัยและพัฒนาด้านเลเซอรืฟิสิกส์ แต่ในครั้งนี้ท่านได้ให้ความเห็นและคำแนะนำที่สำคัญแก่คณะทำงานว่า "งานวิจัยและพัฒนาด้านเลเซอร์ฟิสิกส์ในประเทศไทยนั้นค่อนข้างจำกัดด้วยเหตุผลหลายประการ" แต่มีงานวิจัยหนึ่งที่น่าสนใจกว่านั้นคือ การเคลือบในสุญญากาศ

จากคำแนะนำของ รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ ดังกล่าว คณะทำงานจึงกลับมาสำรวจและศึกษาข้อมูลเพิ่มเติม ทำให้คณะทำงานทราบว่าเทคโนโลยีการเคลือบในสุญญากาศเป็นเรื่องที่ค่อนข้างใหม่สำหรับประเทศไทย (ในขณะนั้น) แต่กลับเป็นหัวข้อวิจัยที่น่าสนใจ เนื่องจากการเคลือบในสุญญากาศเป็นพื้นฐานของงานวิจัยหลายด้าน อีกทั้งยังสามารถประยุกต์ใช้งานจริงได้เชิงอุตสาหกรรม และที่สำคัญ (ในขณะนั้น) รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ ได้ทำการวิจัยและพัฒนาด้านการเคลือบในสุญญากาศจนสำเร็จมาระยะหนึ่งและพบว่ามีทางเป็นไปได้ในการขยายออกสู่อุตสาหกรรม ซึ่งท่านยินดีให้คำแนะนำและคำปรึกษาแก่คณะทำงานในการเตรียมความพร้อมด้านต่างๆ ในการเริ่มงานวิจัยและพัฒนาด้านการเคลือบในสุญญากาศที่มหาวิทยาลัยบูรพา ทั้งนี้นอกจากคำแนะนำที่สำคัญต่างๆ แล้วท่านยินดีรับเป็นที่ปรึกษาของคณะทำงานอีกด้วย จากรายละเอียดต่างๆ ข้างต้นประกอบกับคณะทำงานตระหนักถึงความสำคัญของเทคโนโลยีนี้ต่อการพัฒนาประเทศ จึงได้เริ่มวางแผนและกำหนดทิศทางการศึกษาวิจัยและเตรียมความพร้อม ทั้งด้านบุคคลากร อุปกรณ์ และเครื่องมือวิจัย ตามคำแนะนำของ รศ.ดร.พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ ตั้งแต่ ปี พ.ศ.2536 เป็นต้นมา จนสามารถออกแบบและสร้างเครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยวิธีสปัตเตอริงซึ่งใช้วัสดุส่วนใหญ่ในประเทศได้เป็นที่สำเร็จในปี พ.ศ.2540

ต่อมาในปี พ.ศ.2541 คณะทำงานจึงมีแนวคิดที่จะจัดตั้งหน่วยงานที่เน้นการวิจัยเฉพาะด้านเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง จึงได้รวบรวมเครื่องมือ พร้อมกำหนดวัตถุประสงค์ ทิศทางการวิจัย กิจกรรมการดำเนินงานและได้จัดตั้งหน่วยงานเฉพาะชื่อ “ห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง (Vacuum Technology and Thin Films Research Laboratory ; VTTF)” (โดยมี รศ.ดร.พิเชษฐ  ลิ้มสุวรรณ ให้ความกรุณารับเป็นที่ปรึกษา) เพื่อศึกษาวิจัยและพัฒนาเฉพาะทางด้านเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง โดยมุ่งเน้นการศึกษาวิจัยและพัฒนาใน 3 ด้านหลัก คือ (1) ด้านฟิสิกส์และเทคโนโลยีสุญญากาศ (vacuum physics and technology) (2) ด้านเทคโนโลยีฟิล์มบาง (thin films technology) และ (3) ด้านการประยุกต์ใช้เทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง (application of vacuum technology and thin films) และยังจัดให้มี (4) หน่วยบริการวิชาการด้านเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง (vacuum technology and thin films services unit) ทำหน้าที่ให้บริการวิชาการแก่หน่วยงานและบุคคลที่สนใจทั่วไป ตลอดจนสนับสนุนการเรียนการสอนของภาควิชาฟิสิกส์ในสาขานี้โดยเฉพาะ

สำหรับการเปลี่ยนแปลงด้านบุคลากรของห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง ตั้งแต่เริ่มต้นใน ปี พ.ศ.2536 จากคณะทำงานซึ่งเป็นผู้ร่วมก่อตั้ง ห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง 3 ท่าน คือ รศ.สุรสิงห์ ไชยคุณ ผศ.นิรันดร์ วิทิตอนันต์ และ อ.สกุล ศรีญาณลักษณ์ ซึ่งได้ดำเนินงานมาอย่างต่อเนื่อง จนใน ปี พ.ศ.2540 คณะทำงานก็ได้ผู้ร่วมงานเพิ่มขึ้นอีก 1 คน คือ อ.จักรพันธ์ ถาวรธิรา ส่วน รศ.สำเภา จงจิตต์ ได้เข้ามาร่วมงานกับคณะทำงานในปี พ.ศ.2545 การเปลี่ยนแปลงด้านบุคลากรครั้งสำคัญของห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบางเกิดขึ้นครั้งแรกในปี พ.ศ.2548 เมื่อ อ.สกุล ศรีญาณลักษณ์ เกษียณอายุราชการ แต่ด้วยความผูกพันธ์ที่ อ.สกุล ศรีญาณลักษณ์ มีกับห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง ทำให้ อ.สกุล ศรีญาณลักษณ์ ยังมาร่วมกิจกรรมกับห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบางทั้งด้านงานวิจัยและกิจกรรมอื่นๆ อยู่อย่างสม่ำเสมอ นอกจากนี้ในแต่ละช่วงเวลา ห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง ยังได้รับการสนับสนุนด้านบุคลากรจากภาคเอกชนที่ร่วมวิจัยด้วยดีเสมอมา จนถึงปัจจุบัน ห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง มีเจ้าหน้าที่ซึ่งจ้างจากงบสนับสนุนการวิจัยและการสนับสนุนจากภาคเอกชน จำนวน 5 คน บุคลากรเหล่านี้เป็นกำลังสำคัญของห้องปฏิบัติการวิจัยเทคโนโลยีสุญญากาศและฟิล์มบาง ในการวิจัยและพัฒนาด้วยดีตลอดมา